La differenza tra AC e DC plasma è il modo in cui vengono generati.Plasma DC si basa sul fatto che un gas mantenuto tra due elettrodi che hanno un sufficiente potenziale elevato sarà ionizzato.L'effetto è chiamato a scarica luminescente DC.Elettroni saranno accelerati verso l'anodo, gli ioni verso il catodo.Se un materiale conduttivo è posto sul catodo, ioni accelerata bombardare il materiale e portare a un processo chiamato sputtering.Se un isolante è posto tra gli elettrodi, il plasma non sarà in grado di formare in condizioni DC (si pensi di un condensatore!).Qui, AC è richiesta (di solito nella gamma RF 10MHz - 14MHz).Questo è il processo utilizzato per il plasma etching di wafer.
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